半导体硅晶片生产行业过程中，蚀刻晶片需要用一定浓度的碱液（NaOH和KOH)。这个浓度需要精确的和可重复的蚀刻过程测量和控制。 德国的Rhotec传感器适用于 - 硅晶片生产电子芯片 - 测量NaOH和KOH在[w/w% ] - 蚀刻液浓度的Rhotec自动控制 测量原理     在线Rhotec-E密度传感器/传送器精确测量液体的密度，可以在极端工艺条件状态下使用。当样品经过U型管，振荡频率发生变化并测量相应的振荡频率，温度探头PT1000作温度补偿，测出的振荡频率转换为密度并显示w/w%，v/v%，Brix(白利糖度)，萃取率%或其他可测量介质的密度。使用此装置可记录分析液体的密度变化，尤其溶解性物质和非溶解性物质的混合物，如有机和无机混合物。 技术参数： 测量范围 0~3 g/cm3 过程连接 3/8”螺纹 精度 ±0.0001 g/cm3 传感器连接 现场总路线DP 重现性 ±0.00001 g/cm3 输入 2*digital（24VDC） 响应时间 ≤ 1s 输出 3*digital（24VDC） 2*analog(4~20mA) 温度传感器 Pt1000 可选 现场总线DP 温度范围 -25~125℃ 外壳防护等级 IP65 压力 最大50bar 电源 24VDC 接触样品的材质 哈氏合金C276，蒙乃尔合金400， 耐热铬镍铁合金825， 不锈钢1.4571，钽等 爆炸防护（可选） Ex  Ⅱ 2G Eex d ⅡC T6 著作权归作者所有。 商业转载请联系作者获得授权，非商业转载请注明出处。 链接：https://www.instrument.com.cn/news/20130514/100173.shtml 来源：仪器信息网 下一篇：工业测量市场的下一个风口在哪?